新年职工工作总结范文成

20xx是我人生中特别受益的一年。经过多年的学习，我离开了校园，进入了社会，得到了我的第一份正式工作。我非常荣幸能有机会在47所工作。作为微电子学和固态电子学专业的研究生，在四十七所学校工作一直是我的目标。以下是我对这半年来工作的总结:

一、岗前培训

在校园里，半导体制作的知识大多来自书本和老师；在四十七厂工作后，一条完整的半导体生产线出现在我面前，我进入芯片加工中心工作，这让我有机会接触半导体生产，有效地将理论与实践联系起来。

7月中旬进了院，报了47所很有爱心的学校给非本地人员带职工宿舍，在外地心里很温暖。报道后，我院今年对新进员工进行了系统的专业岗位培训和职业规划培训，使我摆脱了刚出校园时的青涩，迅速进入科研工作者的新主角。

经过一周的培训，我院还为新员工安排了为期一周的军训拓展训练。在炮兵学院，我们21名新员工* * *努力工作，团结协作，* * *克服了一个又一个艰难的任务，使得我们这个来自不同部门的新员工小团体越来越有凝聚力和默契。

这种默契和凝聚力为我们今后工作中的协调与合作奠定了坚实的基础。虽然军训很苦很累，但却让我们快速成长，对我们有着深远的好处。

军训结束后，我院安排新员工轮岗实习，每个新员工轮流到其他非本地部门实习。这种安排非常有益。轮岗让我们的视野不仅仅局限于自己的工作范围，还结合了我们所里的培训，让我对完整的半导体生产流程有了详细的了解。

二、腐蚀工艺工作

经过三周的轮岗实习，我回到了自己的部门——芯片加工中心。芯片加工中心的工作是半导体生产中最重要的事情，在这里我们将虚拟电路或器件的设计图转化为实际的硅片，可谓从无到有。

来到芯片加工中心这个大家庭，我深深体会到了部门领导和岗位前辈的热切关怀。我被分配到腐蚀工艺，跟马洪江师傅学习腐蚀工艺的制作。

蚀刻过程与光刻过程密切相关。在半导体生产中，光致抗蚀剂层用于反射掩模图案。在我们的蚀刻过程中，设计图案实际上是体现在硅片上的。通过干法或湿法刻蚀操作去除剩余的介质层和金属层，真正实现虚拟图形到真实图形的转换。

在这几个月的生产实践中，熟悉并掌握了各种刻蚀方法，包括:干法和湿法去除光刻胶、BOE去除SiO2层、湿法去除铝层、LAM-490干法刻蚀多晶、AME8310干法刻蚀介质层、AME8330干法刻蚀铝层以及各种刻蚀液的配制和使用。

此时此刻，我已经初步具备了独立完成各种腐蚀作业的潜力。除了我卑微的努力，没有前辈在这个过程中卑微的指点，我不可能得到此刻的成就。在此，对腐蚀过程中的前辈们表示感谢。

三。20xx年展望

在即将到来的20xx年，作为一名新人，我将继续勤奋踏实地完成我在芯片加工中心的工作，进一步把在校园里学到的微电子专业知识与生产实际相结合，开拓进取，努力创新，实现我和部门的成长。

工作总结的“总结”和“总结”其实就是两个步骤:工作总结和结果展示。这两步缺一不可。任何一步做得不好，都没有办法输出一份漂亮的工作总结。

工作总结就是对你过去的工作进行大体的梳理，以便对你的工作有一个清晰的结构和明确的重点，因为如果你连这个都不知道，你的老板就更不可能对你有一个更准确的评价。

结果呈现首先是结论，但仅凭结论不足以全面反映个人的工作能力，你需要知道如何更全面地呈现你是如何创造这些价值的。